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边发射领导结构,工作,优点,缺点

这个页面覆盖结构,操作工作,优点和缺点边发射了。它提到边缘发射优势或福利和边缘发射领导的缺点或缺陷。

边发射导致结构|边发射领导工作操作

•广泛应用于光纤通信系统。平行光从领导需要送入光纤耦合效率高。
•图1描述了基于多层结构的输入边缘发射了。用于长波长光学通信约。1.33到1.55µm之间。

边发射领导结构

•现代,MBE外延生长技术,如使用金属等为了设计这样复杂的领导结构。
•中央活跃层是用InGaAs窄隙。它是有界等宽禁带层p + InGaAsP和n + InP包覆层。
•这两个包覆层帮助的电子和空穴注入层。它还有助于释放光子沿着轴按光学性质。
•由于上面,发出光的边缘了。因此它的名字边发射带。

领导的边缘发射好处或优势

以下是或好处优势的边缘发射:
➨它优越的光束准直财产提供了更大的与光纤耦合效率与表面发射了。
➨它提供了更高的效率与低到高辐射。它满足了高亮度LED照明行业的要求。
➨它辐射空气比较少的权力表面发射由于重吸收和界面复合。
➨它提供了更好的调制带宽和更定向发射模式。
➨它提供5 - 6倍的耦合功率的NA(数值孔径)步骤/分级指数纤维。这是由于小的光束发散度。
➨提供高数据率(> 20 Mbps)比表面发射了。

领导的边缘发射缺点或不足

以下是缺点或缺点的边缘发射:
➨它的结构是复杂的。
➨很难设计散热器。
➨是昂贵的比较其他领导类型。
➨期间有很多问题需要处理机械装配和安装。

还引用的优势、劣势和基础的表面发射了> >双异质结了> >



其他无线技术的优点和缺点


之间的区别是什么

OFDM和OFDMA的区别
SC-FDMA和OFDM的区别
不同的输出和再分配
TDD和FDD的区别
FDMA vs TDMA vs CDMA
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射频和无线术语


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